История развития средств откачки в России и мире
Мировая история средств откачки берет свое начало в 1642 г. с известных опытов Отто фон Герике с Магдебургскими полушариями, для откачки воздуха их которых он использовал обычный пожарный насос, герметизированный с помощью помещения в водяную ванну.
С тех пор средства получения вакуума прошли длительный путь развития вплоть до создания современных промышленных образцов, основанных на различных принципах действия, и охватывающих широкий диапазон создаваемых давлений от атмосферного до 10-13 мм рт. ст. и ниже.
В рамках учебного пособия невозможно детально проследить всю историю мирового развития технических средств откачки. Основные этапы их развития за рубежом освещены в различных монографиях, статьях и обзорах. Практически не освещена отечественная история средств откачки, которая несомненно представляет познавательный интерес для отечественных специалистов — вакуумщиков, историков техники и студентов. Поэтому авторы сочли необходимым в данном издании включить главу, посвященную истории развития вакуумной техники в России.
Вакуумная и криогенная техника во многом определяют прогресс мировой науки и техники.
В работе рассматриваются примеры применения вакуумных технологий в металлургии, химии, нефтехимии, химическом машиностроении, электротехнике, энергетике, угледобывающей и горнорудной промышленностях, электрофизическом аппаратостроении, космонавтике, авиации, научном приборостроении и т.д.
Отечественную историю развития средств откачки можно условно разбить на три периода:
Первый — период становления, охватывающий промежуток времени до второй мировой войны, связанный с использованием вакуума в научных исследованиях, с появлением и развитием отечественной электровакуумной промышленности: производством ламп накаливания, радиоэлектронных ламп, рентгеновских трубок и т.д.
До начала 30-х годов двадцатого столетия основными средствами получения вакуума в стране были ртутные насосы Тендера и Ленгмюра, изготавливавшиеся в стеклодувных мастерских лабораторий и заводов, а также насосы, покупавшиеся за рубежом. В 1912 г. профессором Петербургского университета Боровиком был изобретен диффузионный парортутный насос.
С середины 30-х годов до начала второй мировой войны в Харьковском физико-техническом институте были проведены работы по созданию первого отечественного вакуумного масла с низкой упругостью пара 10-5 мм рт. ст. и первых отечественных паромасляных фракционирующих диффузионных насосов с быстротами действия от 40 до 1000 л/с.
Второй — период становления и стремительного развития откачной вакуумной техники, охватывающий промежуток времени с 1945 г. до середины 60-х годов.
Этот период, явившийся периодом Ренессанса в вакуумной технике, был связан с научно-технической революцией, вызванной развитием военной техники и распространившейся на все области промышленности, техники и науки. Именно в этот период была заложена научная, техническая и промышленная база откачной вакуумной техники, дальнейшее совершенствование и развитие которой продолжалось в третий период, начиная с середины 60-х годов до настоящего времени.
1945-1947 гг. Основной потребитель вакуумной техники, как и в довоенные годы — электровакуумная промышленность. В1945 г. организована Центральная вакуумная лаборатория (ЦВЛ), которая возглавлялась будущим академиком С.А. Векшинским. Для нужд электровакуумного производства создаются первые промышленные отечественные вакуумные насосы: форвакуумные ВН-494, BH-46I и РВН-20, диффузионный ЦВЛ-100 с быстротой действия 100 л/с. Разрабатываются специальные вакуумные масла для насосов: вазелиновое ВМ-4 для механических насосов, вазелиновое Д1, октойли ОФ и ОС для диффузионных.
I947-1950 гг. Бурный рост работ в области атомной техники, организация производства атомного горючего потребовали создания целого комплекса вакуумного оборудования, качественно и количественно совершенно не похожего на то, что имелось в стране до этого.
В 1947 г. для этой цели на базе ЦВЛ организован Научноисследовательский вакуумный институт (НИВИ), ныне НИИВТ им. С.А. Векшинского [1, 2]. В этот период создается диффузионный насос Н-20Т с быстротой действия 20000 л/с — один из крупнейших по тем временам насос в мире, который еще долгие годы после его создания оставался уникальным по производительности насосом. Разрабатывается первый промышленный образец паромасляного бустер-насоса с быстротой действия 500 л/с БН-3 и создается специальное бустерное масло — масло Г. На базе этих насосов создается первый в стране высоковакуумный откачной агрегат H-205. Уже в те далекие годы были разработаны многие элементы оборудования явившиеся прообразами современных конструкций вакуумной техники: азотные и фреоновые ловушки, вакуумные запорные вентили, натекатели, затвор шиберного типа, сорбционные насосы для откачки хлора — хлоропоглотители. Уже тогда были опробованы первые конструкции внутренних нагревателей в па-ромасляных насосах. В содружестве с работниками КБ Московского завода им. Владимира Ильича разрабатываются крупные по тем временам механические насосы ВН-2, BH-I ж ВН-4 с быстротами откачки от 6 до 50 л/с. Знаменательным событием того периода, сыгравшим решающее значение для всего последующего развития вакуумной техники явилась организация промышленного производства откачного вакуумного оборудования на заводе им. Владимира Ильича.
В ХФТИ продолжаются работы по наследованию и совершенствованию диффузионных насосов. Разрабатываются насосы М-20 и М-4 с быстротами действия 20000 и 40000л/с. И.М. Лившицем и Л.Н. Ро-зенцвейгом предлагается приближенная теория диффузионного насоса.
1951-1956 гг. Промышленный выпуск вакуумного оборудования на заводе им. Владимира Ильича способствовал освоению вакуум-технологических процессов в различных отраслях промышленности. Потребность в вакуумном откачном оборудовании возрастает. Появляются новые требования к нему. Возникает необходимость откачивать конденсируемые пары и парогазовые смеси, приведшая к разработке газобалластных устройств к насосам ВН-1, ВН-2, ВН-4, ВН-6. Разработанные устройства позволили обеспечить удовлетворительную откачку паров воды при впускном давлении -5 мм рт. ст. форвакуумными насосами с быстротами действия от 6 до 150 л/с. Разрабатывается первая унифицированная серия высоковакуумных паромасляных насосов H-IC, H-5C, Н-5Т, Н-8Т с быстротами действия от 100 до 8000 л/с. Насосы подобны по конструкции и характеристикам. Рабочий диапазон создаваемых давлений 10-6—10-4 мм рт. ст., наибольшее выпускное давление 0,1 мм рт. ст. На базе насосов создается серия высоковакуумных агрегатов BA-01-1; ВА-0,5-1; ВА-2-3; ВА-5-4; ВА-8-4, оснащенных азотными ловушками и затворами.
Создание унифицированной серии высоковакуумных паромас-ляных насосов и агрегатов и серии газобалластных форвакуумных насосов различной производительности явилось важной вехой в дальнейшем внедрении вакуума в различные технологические процессы приборо- и аппаратостроения: в качественную металлургию, электронику, нефтехимию, масс-спектрометрию, ускорительную технику и др.
Развитие ускорительной техники и техники получения редких и активных газов стимулирует начало работ по созданию парортутных насосов и агрегатов. Создаются насосы Н-5Р, Н-40Р, H-1TP с быстротами действия от 5 до 1000 л/с, уникальный насос с выхлопом в атмосферу ЭПРН-760, не имеющий и до сего времени аналогов за рубежом. Разрабатываются герметичные механические насосы НВГ-1, НВГ-2, НВГ-3 для откачки редких и радиоактивных газов.
Развитие производства вакуумного оборудования и необходимость его расширения приводит к передаче производства вакуумной техники с завода им. Вл. Ильича на Московский з-д Компрессор.
В 1950-51 гг. Б.Г. Лазаревым и Е.С. Боровиком в ХФТИ выполнены первые работы по исследованию процесса криосорбцион-ной откачки и разработан первый заливной криосорбционный гелиевый насос ВК-4.
В 1954 г. В.И. Скобелкиным и Н.И. Юценковой предложена теория диффузионного насоса, учитывающая реальный механизм работы насоса.
1957-1959 гг. Развитие производства качественных сталей и тугоплавких металлов в вакуумных дуговых и индукционных печах выдвигает задачу создания высокопроизводительных насосов, работающих в области давлений 10-1-10-4 мм рт. ст. Для этой цели разрабатываются паромасляные бустер-насосы Б^КОО, БН-1500-2, БН-4500 и БН-15000 с быстротами действия от 1500 до 15000 л/с, с диапазоном рабочих давлений 10-2 — 10-4 мм рт. ст. Необходимость откачки больших количеств воздуха выдвигает задачу создания для бустер-насосов термоокислительно стойких рабочих жидкостей. Разрабатываются стойкое нефтяное масло ВМ-3 и кремнийорганическая жидкость ПФМС-1.
Наряду с паромасляными насосами разрабатываются механические бустер-насосы на основе конструкции двухроторных воздуходувок Рутса -насосы ДВН-500 и ДВН-1500. Производство насосов организуется на Мелитопольском компрессорном заводе.
Дальнейшее развитие электровакуумного производства, потребность в небольших широкодиапазонных высоковакуумных насосах приводит к созданию диффузионных насосов Н-005 и НВО-40. Насос Н-005 совмещал в себе свойства высоковакуумного и бустерного насосов, работая в области давлений 10-6— 10-2 мм рт. ст. и обладая высоким значением наибольшего выпускного давления 4 мм рт. ст. Эти характеристики наряду с высокой термоокислительной стойкостью разработанных для него кремнийорганических жидкостей ПФМС-2 и ВКЖ-94 делали его удобным для оснащения автоматов откачки электровакуумных приборов. Насос НВО-40 с воздушным охлаждением предназначался для оснащения подвижных линий откачки электровакуумных приборов. Им были оснащены также гелиевые течеискатели ПТИ.
Расширение работ в области ускорительной техники и начало работ в области управляемых термоядерных реакций потребовало создания высокопроизводительных парортутных насосов и сверхвысоковакуумных агрегатов на их основе. Были разработаны насосы Н-5СР, Н-6ТР с быстротами действия 500 и 6000 л/с, агрегаты РВА-05-1, BA-2-I, РВА-6-1, РВА-05-2, с предельным вакуумом 10-6 мм рт. ст. и прогреваемые агрегаты РВА-0,54 и РВА- 1-3 с предельным вакуумом 10-10 мм рт.ст. На агрегате РВА-0,5-4 в результате специальных исследований и разработанных мероприятий удалось получить предельный вакуум 10-13 мм рт. ст., наиболее низкий из когда-либо достигнутых для пароструйных насосов. Разрабатываются сверхвысоковакуумные прогреваемые паромасляные насосы ВА-05-5 и ВА-8-9М на базе насосов Н-5С и Н-8Т с предельным вакуумом 5-10-9 мм рт. ст.
I960-1965 гг. Итак, к I960 г. был создан уже целый комплекс различного откачного вакуумного оборудования, обеспечивающего получение низких давлений от 760 до 10-13 мм рт. ст. Однако производство оборудования было рассредоточено на ряде неспециализированных заводов: Компрессоре, Ливгидромаше, Мелитопольском и других, что затрудняло обеспечение технического прогресса и дальнейшее развитие вакуумной техники. В связи с этим по предложению НИВИ, в 1959 г. решением ЦК КПСС и СМ СССР создается специализированный завод вакуумного оборудования в Казани — Казмехзавод с СКБ при заводе, которое в 1961 г. реорганизуется в Центральное конструкторское бюро вакуумной техники (ныне НПО «Вакууммаш»).
Таким образом, начало 60-х годов знаменательно созданием комплекса специализированных вакуумно-технических производственных организаций — НИВИ, ЦКБ-ВТ и Казмехзавода. В это же время строится цех для производства высокопроизводительных механических насосов на Сумском насосном заводе. В результате проведенных мероприятий уже в 1962 г. производство вакуумного откачного оборудования в стране достигло объема 33,5 тыс. единиц. Таким образом, в стране была организована научная и производственная база вакуумной техники, которая создала условия для дальнейшего бурного развития вакуум-технологических процессов, вакуумного аппарате- и приборостроения в различных отраслях промышленности и техники. Уже к середине 60-х годов вакуум использовался в той или иной мере практически во всех отраслях промышленности.
Для развития вакуумной техники первая половина 60-х годов характерна качественными сдвигами — появлением принципиально новых видов откачного оборудования, не использующего для своей работы вакуумных масел.
Так, для обеспечения безмасляного вакуума в установках для термоядерных исследований, а затем и для откачки особо надежных изделий электронной техники создается ряд электрофизических и физико-химических средств откачки. Разрабатывается группа сорбционноионных насосов типа СИН с производительностями 2000, 5000 и 20000 л/с, работающих на принципе поглощения газов титаном, распыляемым из жидкой капли электронной бомбардировкой при постоянной ионизации газа встроенным ионизатором. На базе насоса СИН-20 создается уникальный по своим характеристикам агрегат АВТО-20М, в котором распыляемый титан конденсируется на поверхности, охлаждаемой жидким азотом. Агрегат позволяет получать быстроту действия по водороду 30000 л/с и предельный вакуум 10-12 мм рт. ст.
Высокая интенсивность испарения титана жидкофазными испарителями при малом потреблении мощности позволяет создать автономные электронно-лучевые испарители со скоростью испарения титана до 1,5 г/мин для откачки термоядерных установок. Использование этих испарителей в термоядерной установке Огра позволило успешно решить проблему создания скоростей откачки установки около миллиона л/с.
Однако наличие высокого напряжения и накаленного катода, а также механизмов подачи титановой проволоки в испарителях насосов типа СИН существенно сужали возможности широкого применения насосов.
Работы НИВИ в области получения иодидного титана позволили создать в начале 60-х годов не имеющие аналогов за рубежом прямонакальные испарители на основе иодидного титана, нанесенного на молибденовый стержень. Несмотря на меньшие скорости испарения, в сравнении с жидкофазными испарителями, эти испарители просты в эксплуатации, не содержат механизмов, не требуют высокого напряжения для работы. На базе этих испарителей был разработан ряд сорбци-онно-ионных или, как их теперь называют, геттерно-ионных насосов типа ГИН с производительностями от 5 до 50000 л/с, с предельным вакуумом 10-9 мм рт. ст. Основной недостаток геттерно-ионных насосов — малый срок непрерывной работы и наличие накаленных деталей.
Свободны от этих недостатков магниторазрядные насосы, работающие на принципе распыления титана в высоковольтном разряде Пеннинга. С I960 по 1964 гг. разрабатывается серия диодных магниторазрядных насосов типа НЭМ с быстротами действия от 30 до 6500 л/с: НЭМ-30-2, НЭМ-100-2, НЭМ-300-1, НЭМ-1Т-1, НЭМ-2-5Т-1, НЭМ-7Т-1. Насосы позволяют получать предельный вакуум 10-10 мм рт. ст. при давлении 10-2 мм рт. ст. ГИН и НЭМ находят все возрастающее применение в электронной промышленности, в ускорительной технике, в физических лабораториях. Производство их организовывается на заводе в г. Калининграде (ныне ПО Кварц).
Комплекс работ по безмасляным средствам откачки в этот период завершается разработкой ряда сорбционных цеолитовых насосов и агрегатов, предназначенных для предварительной форвакуумной откачки систем с геттерно-ионными магниторазрядными насосами от 760 до 10-2 -10-4 мм рт.ст.-(насосы ЦВН-0,1-2, ЦВН-1-2, агрегаты ЦВА-0,1-1, ЦВА-0,1-2, ЦВА-1-1, ЦВ-1-2). На базе магниторазрядных и цеолитовых насосов создается ряд безмасляных откачных агрегатов типа Эра: Эра-30-2, ЭРА-100-2, ЭРА-300-2 с быстротами действия от 25 до 250л/с, с предельным вакуумом 10-10 мм рт. ст.
В начале 60-х годов совместно с ЦКБ-ЭФП разрабатывается первый отечественный сверхвысоковакуумный турбомолекулярный насос ТВН-200 с предельным вакуумом 10-9 мм рт. ст. и быстротой действия 250 л/с и агрегат на его основе ТВА-200. Позднее разрабатываются турбомолекулярные насосы ТВН-500, ТВН-2000 и ТВН-5000 и агрегаты на их основе.
Начавшиеся еще в конце 50-х годов работы по промышленному освоению метода вакуумной дегазации жидких сталей требовали создания насосов с быстротой действия в десятки и сотни тысяч л/с при давлениях 0,5-1мм рт. ст. Эта задача решалась созданием ряда высокопроизводительных пароэжекторных насосов с быстротой действия до 150000 л/с. Были созданы уникальные пароэжекторные насосы с быстротами действия 10000 и 20000 л/с при давлении 10-2 мм рт. ст.
В 1963-1965 гг. в НИВИ выполнены оригинальные исследования и разработаны действующие модели так называемых холодных диффузионных насосов, рабочие струи которых создавались углекислым газом, а механизм действия основывался на откачке удаляемого воздуха при конденсации углекислого газа на стенке, охлаждаемой жидким азотом. Подводя итог работам рассматриваемого второго периода, можно отметить, что к концу 1965 г. отечественная вакуумная техника располагала практически всеми известными видами откачного вакуумного оборудования.
Становление и дальнейшее развитие отечественной микроэлектроники во многом определило тематическую направленность работ в области вакуумной техники.
Вакуумные технологии стали определяющими во всем цикле изготовления интегральных схем (ИС). Получение сверхчистых металлов и полупроводниковых материалов, выращивание ленточных монокристаллов, молекулярно-лучевая эпитаксия, получение тонких пленок полупроводниковых материалов и металлов, ионно-плазменное и плазмохимическое травление рабочих материалов, ионная имплантация, радиационная обработка, электронная и ионная литография и другие -далеко не полный перечень вакуумных процессов в технологии производства ИС. Из примерно 200 операций современной технологии изготовления сверхбольших интегральных схем (СБИС) 160 осуществляют в вакууме.
Широким фронтом были развернуты работы по исследованию и разработке технологических процессов и оборудования ионной имплантации. В 1968-69 гг. была создана первая универсальная установка ионной имплантации «Везувий-1» и освоено её серийное производство. Направление ионной имплантации становится одним из основных ведущих тематических направлений. С начала 70-х годов ведутся систематические исследования и разработки оборудования ионной имплантации для производства различных изделий микроэлектроники, в результате которых был создан целый ряд автоматизированных установок «Везувий» различного направления (от «Везувий-1» до «Везувий-16»).
В 70-е годы было создано оборудование для радиационно-стимулированной и протонной обработки полупроводниковых структур, а в начале 80-х годов — установка электронного отжига «Викинг».
С начала 70-х годов выполняется широкий комплекс исследований и разработок, связанных с созданием ионно-плазменных методов осаждения и травления тонких плёнок. В результате этих работ был создан ряд оригинальных, не имеющих аналогов в мире, холодных ионных источников с практически неограниченным сроком службы типа «Радикал», «Холодок». На базе этих источников создана целая гамма установок для ионно-лучевого и реактивного ионно-лучевого травления и осаждения тонких плёнок.
Наряду с ионно-лучевыми источниками разработан ряд источников ионов магнетронного типа МАГ-5, МАГ-15, МАГ-50 и других. и оборудование на их основе.
Разработанные технологические процессы и оборудование ионной и ионно-химической обработки позволили исключить жидкостные процессы в производстве интегральных схем и полупроводников и впервые реализовать в промышленности полностью сухой цикл изготовления изделий микроэлектроники с субмикронными размерами элементов, создать и освоить производство принципиально новых классов приборов твердотельной электроники: импульсных и малошумящих кремниевых и арсенид-галлиевых транзисторов, приборов дифракционной оптики, ПАВ СВЧ-диапазона и др. Это был революционный переворот в технологии микроэлектроники, открывший возможность создания полностью автоматизированных, экологически чистых технологических линий производства интегральных схем и полупроводников.
Процессы ионно-лучевой обработки находят в последние годы все более широкое применение в промышленности для очистки и активации поверхности при осаждении плёнок, для прецизионного полирования поверхности, для осаждения плёнок непосредственно из пучков ионов в технологических процессах нанесения тонкопленочных проводящих и диэлектрических покрытий, алмазоподобных плёнок, плёночных композиций и др.
Развитие плёночной тематики привело к разработке вакуумнодуговых методов нанесения металлических покрытий на диэлектрические и металлические изделия. Вакуумно-дуговая металлизация отличается высокой производительностью, возможностью наносить любые металлы и сплавы при сохранении их состава, широким диапазоном толщин наносимых плёнок; большой прочностью сцепления плёнки с подложкой, малой энергоёмкостью, возможностью наносить покрытия на изделия любой формы и любых размеров. На базе плазменнодуговых источников создано оборудование для плазменно-дугового нанесения покрытий. Созданные технологии и оборудование позволяют кардинально решить важнейшую проблему замены в различных производствах экологически вредных мокрых процессов электрохимической гальваники на абсолютно экологически чистые процессы. Были разработаны и внедрены в производство экологически чистые процессы плазменно-дугового нанесения покрытий в производстве миниатюрных бесколпачковых и прецизионных резисторов, пьезокерамических элементов для систем гидроакустики без традиционного применения серебра, выводных рамок ИС с металлизацией алюминием вместо золота и др. изделий.
Развитие микроэлектроники, решение задачи создания СБИС с субмикронными размерами элементов потребовало создания принципиально нового литографического оборудования.
В конце 70-х годов проводятся исследования и разработка электронно-литографического оборудования. Установка электронной проекционной литографии «Вертикаль» явилась первой отечественной промышленной установкой этого класса оборудования. Позднее в 80-х годах развертываются работы по исследованию и разработке оборудования ионной и рентгеновской литографии, позволяющих перейти к формированию структур СБИС с размерами элементов около 1 мкм. В это же время выполняются разработки компактного источника синхротронного рентгеновского излучения (СРИ) с диаметром накопительного кольца 2,2 м и 21 каналом вывода СРИ.
На базе разработанных вакуумно-технологических процессов и оборудования для нанесения и травления слоев, ионной имплантации, электронной литографии и новейшей вакуумной техники в 1985 г. была создана первая в стране интегрированная автоматическая линия, предназначенная для изготовления сверхбольших интегральных схем запоминающих устройств на ЦМД. Это был поистине революционный скачок в развитии технологии и техники микроэлектроники. Только через много лет после этого в мировой практике появились установки-кластеры аналогичного назначения.
Владение современной технологией изготовления СБИС и наличие комплекса необходимого вакуумно-технологического оборудования позволили решить в середине 80-х годов важнейшую проблему создания СБИС ЗУ на ЦМД на 1 и 4 Мбит. Таким образом, был реализован полный цикл создания СБИС от идеи до готового прибора, включая разработку технологии, оборудования и приборов.
Разработка различного оборудования, основанного на ионных методах обработки, позволила выдвинуть новую революционную задачу создания интегрированной ионной технологии и многоцелевой установки ионной обработки, реализующей все этапы изготовления СБИС в едином вакуумном цикле. Технологический процесс такой обработки получил название «имплантографии» — технологии будущего.
Развитие электронной промышленности, в особенности микроэлектроники, выдвинуло задачи дальнейшего развития и совершенствования элементной базы вакуумной техники.
Были разработаны новые средства откачки:
• форвакуумные механические насосы с масляным уплотнением, предназначенные для откачки агрессивных газов, установки для очистки масла в насосах;
• агрегат в химостойком исполнении на базе двухроторного и форвакуумного насоса;
• диффузионные насосы с воздушным охлаждением, укороченные серии диффузионных насосов;
• турбомолекулярные насосы на шарикоподшипниковых опорах с циркуляцией смазывающего масла, с консистентной смазкой подшипников и с магнитными опорами ротора;
• криогенные насосы заливные и с газовыми микрокриогенераторами;
• магниторазрядные и испарительные геттерноионные насосы, комбинированные магниторазрядные насосы, в том числе уникальные микронасосы магниторазрядные и геттерноионные, предназначенные для встраивания в ЭВП.
Разработан целый ряд рабочих жидкостей для вакуумных насосов: минеральных и синтетических, в том числе химостойких для диффузионных и механических насосов, сверхвысоковакуумных для диффузионных насосов, специальных жидкостей для турбомолекулярных насосов.
Значительное развитие получила вакуумметрическая и течеискательная техника. Разработаны и освоены в производстве мембраноемкостные вакуумметры ВД-1 и ВД-2, измерения которых не зависят от рода контролируемого газа, тепловые, ионизационные и магнито-разрядные вакуумметры и преобразователи давления, в том числе: терморезисторный, блокировочный вакуумметр 13 ВТВ-003; образцовый тепловой ВТСО-1 с малой погрешностью измерения ±10 %; ионизационные блокировочные вакуумметры ВИЦБ-2/7-002 и ВИЦБ-11 с цифровым отсчетом давления; сверхвысоковакуумный ионизационный вакуумметр ВИЦ 9/0-001 с цифровым отсчетом давления, образцовый ионизационный вакуумметр ВИО-1 с погрешностью измерений менее 10%; магниторазрядные блокировочные вакуумметры ВМБ-12, ВМБ-14, ВМБЦ-12, ВМБ-11 с цифровым отсчетом давления, предназначенные для работы в автоматизированных системах, уникальные, не имеющие аналогов за рубежом самоочищающиеся преобразователи давления ПММ-28, ПММ-38, вакуумметр-течеискатель ВТИ-1 и др.